用仁半导体集群一般产业园区化解地区矛盾 共同繁荣合作

[Suwon Ilbo = 记者 Park No-hoon] 关于用仁半导体集群一般产业园区建设事业，因排放水处理问题产生矛盾的用仁市、安城市、SK海力士株式会社、用仁一般产业园区株式会社就排放水水质、水温改善等共同繁荣协议方案达成共识，矛盾暂告一段落。

经基道知事李在明、安城市市长金宝喇、用仁市市长白军基、SK海力士株式会社对外协力总括社长金东燮、SK建设株式会社代表理事安在贤、用仁一般产业园区株式会社代表理事郑彻11日在经基道厅签署了包含上述内容的"用仁半导体集群一般产业园区"建设共同繁荣合作协议，并约定为成功建设产业园区而合作。

本次协议作为经基道调解下地方政府-企业-地方政府间矛盾得以解决的案例，为120万亿规模的大规模产业园区建设事业顺利推进奠定了基础。

李在明知事表示，"进行行政工作时，相关企业的立场和周边地区的立场往往存在差异，所以很难达成共识，很庆幸两位市长和SK集团进行了恰当的让步、相互尊重和妥协，最终达成了理性结论"，并表示"今天这样圆满的协议将大大有助于地区开发，SK集团将乘风破浪，最终为经基道乃至整个韩国经济做出大贡献，这应该是令所有人满意的结论。"

李知事随后表示，"希望即使大规模企业进来，也能形成可以认识到水质得到改善效果的示范案例，希望大家齐心协力确保事业顺利进行。"

安城市市长金宝喇表示，"虽然与进驻用仁的SK海力士相关的安城市民存在许多疑虑，但原本没有表达意见的渠道，经基道为居民创建了可以正式表达意见的共同繁荣协议体，才有了这样的结果"，并表示"期待在相互信任的基础上做出的承诺能够切实践行，安城市也将尽力。"

用仁市市长白军基表示，"承诺在推进过程中即使遇到各种困难，也将始终征求安城市民的同意并推进共同繁荣工作。"

SK海力士株式会社对外协力总括社长金东燮表示，"感谢安城和用仁市民对国家项目——用仁半导体集群推进的协力，我们将及时构建集群，为国民经济做出贡献。"

用仁半导体集群是到2024年为止在用仁市处仁区元三面一带建设的约416万平米规模的大规模产业园区。

虽然位于用仁市，但与安城市高三面、三竹面、高三水库等相邻，因产业园区建设带来的大气、水质污染担忧，安城居民的反对和解决对策要求一直存在。

根据协议，这些机构将改善产业园区排放水的水质、水温至一定水平，并对排放水的水质状态和排放水对生态系统的影响进行联合调查，每年公开调查结果。

所有调查过程都保证居民参与。此外还决定在排放口附近建设生态河川。

同时，经基道在2021年～2023年产业园区物量配置时优先配置安城市的要求。

SK建设将与安城市共同开发优先配置的产业园区，支持安城地区的产业园区建设。

还开展安城、用仁地区共同繁荣合作事业，用仁市向安城市民适用与用仁市民相同水平的用仁平安之森(火化及奉安设施)使用费减免优惠，SK海力士在安城和用仁实施奖学金、青少年国际交流等社会贡献事业。

此外，协议机构还决定实行▲安城地区农产品销路扩大等农业振兴政策▲产业排放水相关水系河川整备▲安城市北部道路网扩充等。

经基道在去年1月产业园区计划指定公告后因安城地区居民的反对引发矛盾，从8月开始组织运营"经基道-安城市-用仁市-事业施行者共同繁荣协议体"以解决矛盾。

共同繁荣协议体从去年10月开始通过共18次的分部门实务委会议和5次全体会议，围绕水质、产业园区、水边开发、共同繁荣、农产品、河川、道路等7个议题进行讨论，最终形成了此次合意方案。

用仁半导体集群一般产业园区计划在今年上半期获得产业园区计划批准后，通过土地补偿，最早从今年下半期开始进行产业园区建设工程。该项目预期创造约1.7万个就业机会的未来核心事业，与道内平泽高德三星半导体、利川SK海力士等半导体产业园区形成产业带，预期成为未来全球半导体产业的中心。